文章展示3447

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副标题

先进封装
工艺介绍
名词解释

超越摩尔之路——SiP简介根据国际半导体路线组织(ITRS)的定义:SiP为将多个具有不同功能的有源电子元件与可选无源器件,以及诸如MEMS或者光学器件等其他器件优先组装到一起,实现一定功能的单个标准封装件,形成一个系统或者子系统。从架构上来讲,SiP是将多种功能芯片,包括处理器、存储器等功能芯片集成在一个封装内,从而实现一个基本完整的功能。与SOC(片上系统)相对应。不同的是系统级封装是采...

集成扇出型封装(InFO)技术是什么?作为目前移动市场最受欢迎的技术,为什么目前只有两家公司能够生产,其中的难点是什么?晶圆代工大厂格芯于 2017 年 8 月 15 日宣布,采用高效能 14 纳米 FinFET 制程技术的 FX-14 特定应用积体电路(ASIC)整合设计系统,已通过 2.5D 封装技术解决方案的矽功能验证。目前,全由晶圆代工大厂中,仅台积电拥有集成扇出型封装(InFO)技...

Chiplet俗称芯粒,也叫小芯片,它是将一类满足特定功能的die(裸片),通过die-to-die内部互联技术实现多个模块芯片与底层基础芯片封装在一起,形成一个系统芯片,以实现一种新形式的IP复用。当前,主流的系统级芯片都是将多个负责不同类型计算任务的计算单元,通过光刻的形式制作到同一块晶圆上。以旗舰级智能手机的SoC芯片为例,基本都集成了CPU、GPU、DSP、ISP、NPU、Modem...

等离子体刻蚀在集成电路制造中已有40余年的发展历程。刻蚀采用的等离子体源常见的有容性耦合等离子体、感应耦合等离子体和微波ECR 等离子体等。
2022-07-27
晶圆表面起到保护功能的一层薄膜
2022-07-27
Inter Metal Dielectric 的缩写,是金属导线之间的介电材料层
2022-07-27
Inter Layer Dielectric 的缩写,是在晶体管与第一层金属之间形成的介质材料层
2022-07-27
前段(FEOL)指对芯片有源部分的制造工序,即位于芯片硅衬底上的晶体管;后段(BEOL)指在晶体管上部建立若干层的导电金属线,不同层金属线之间由柱状金属相连的制造。
2022-07-27
在集成电路制造过程中使用的SiO2、SiN、SiON 等介质薄膜
2022-07-27
PECVD 设备的反应腔体中的一个关键部件,通过提供稳定的射频输出源、快速的匹配系统及低损耗的射频回路来激发工艺气体成为高活性、高能量的等离子体
2022-07-27
采用TSV(Through-siliconvia,硅通孔)技术的封装,又称TSV 先进封装,目前被认为是半导体行业最先进的技术之一。TSV 可以将芯片堆叠起来使三维空间被利用起来。更重要的是,TSV 实现了贯穿整个芯片厚度的电气连接,更开辟了芯片上下表面之间的最短通路。芯片之间连接的长度变短也意味着更低的功耗和更大的带宽。3D 存储芯片封装也会在将来大量的用到TSV 封装技术。
2022-07-27
在两片晶圆间通过添加再分布层和导电层使之互通互联的封装。再分布层是指在原本晶圆上沉积一层或多层电介质材料用于隔离,再令原本晶圆上的触点裸露,再淀积新的金属层来实现重新布局布线。
2022-07-27
处于前沿的封装形式和技术。目前,带有倒装芯片(FC)结构封装、晶圆级封装(WLP)、系统级封装(SiP)、硅通孔技术(TSV)、2.5D 封装、3D 封装等均被认为属于先进封装范畴。
2022-07-27
在半导体制造的最后阶段,将一小块材料(如芯片)包裹在支撑外壳中,以防止物理损坏和腐蚀,并允许芯片连接到电路板的工艺。
2022-07-27
Fin Field-Effect Transistor 的缩写,鳍式场效应晶体管,是一种新的互补式金氧半导体晶体管,可以改善电路控制并减少漏电流,缩短晶体管的栅长。
2022-07-27
Complementary Metal Oxide Semiconductor(互补金属氧化物半导体)的缩写,由N-MOS 和P-MOS 器件构成的一类芯片,其多晶硅栅极结构有助于降低器件的阈值电压,从而在低电压下运行,是制造大规模集成电路芯片使用的一种器件结构
2022-07-27
被测试芯片经过全部测试流程后,测试结果为良品的芯片数量占据全部被测试电路数量的比例
2022-07-27
当下时点芯片制造最小技术节点, 目前国内通常指28nm/14nm 以下工艺制程
2022-07-27
又称电容率或相对电容率,表征材料电性能的一个重要数据,低k值代表较低的极性
2022-07-27
泛指在集成电路生产工艺可达到的最小栅极宽度,尺寸越小,表明工艺水平越高,意味着在同样面积的晶圆上,可以制造出更多的芯片,或者同样晶体管规模的芯片会占用更小的空间,主要节点如90nm、65nm、40nm、28nm、14nm、7nm、5nm、3nm、2nm 等
2022-07-27
由英特尔创始人之一戈登· 摩尔提出来的,其内容为:当价格不变时,集成电路设计技术每18~24 个月就更新换代一次,即芯片上可容纳的晶体管数目每隔约18~24 个月便会增加一倍,性能也提升一倍。摩尔定律并非数学、物理定律,而是对发展趋势的一种分析预测。
2022-07-27
将通过一系列特定的加工工艺,将半导体硅片加工制造成芯片的过程,分为前道晶圆制造和后道封装测试
2022-07-27
硅片:Silicon Wafer,半导体级硅片,通常也叫晶圆,用于集成电路、分立器件、传感器等半导体产品制造。按其直径尺寸主要分为4 英寸、6 英寸、8 英寸、12 英寸等规格。晶圆:在氧化/扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、清洗与抛光、金属化等特定工艺加工过程中的硅片
2022-07-27
Integrated Circuit,指通过一系列特定的加工工艺,将晶体管、二极管等有源器件和电阻器、电容器等无源原件按一定的电路互联并集成在半导体晶片上,封装在一个外壳内,执行特定功能的电路或系统。
2022-07-27
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